對(duì)于發(fā)明、實(shí)用新型專利權(quán)，判定的標(biāo)準(zhǔn)是看被控侵權(quán)物（產(chǎn)品或方法）的技術(shù)特征是否落入專利權(quán)的保護(hù)范圍，如落入，則構(gòu)成侵權(quán)。發(fā)明專利的侵權(quán)判定標(biāo)準(zhǔn)則是將被控侵權(quán)物的技術(shù)特征與專利權(quán)的保護(hù)范圍進(jìn)行對(duì)比，具體方法如下： 1、確定專利權(quán)的保護(hù)范圍。發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求，解釋專利權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)當(dāng)以專利權(quán)利要求書記載的技術(shù)內(nèi)容為準(zhǔn)，而不是以權(quán)利要求書的文字或措辭為準(zhǔn)。 2、根據(jù)全面覆蓋原則，將被控侵權(quán)物（產(chǎn)品或方法）的全部技術(shù)特征與專利權(quán)利要求中記載的技術(shù)方案的全部技術(shù)特征逐一進(jìn)行對(duì)應(yīng)比較，被控侵權(quán)物（產(chǎn)品或方法）與專利獨(dú)立權(quán)利要求中記載的全部必要技術(shù)特征一一對(duì)應(yīng)并且相同，則構(gòu)成侵權(quán)。具體分四種情況： a）、包含－－－被控侵權(quán)物的技術(shù)特征包含了專利權(quán)利要求中記載的全部必要技術(shù)特征； b）、上位概念涵蓋下位概念－－－專利獨(dú)立權(quán)利要求中記載的必要技術(shù)特征采用的是上位概念，被控侵權(quán)物是下位概念； c）、新增加－－－被控侵權(quán)物在利用專利權(quán)利要求中的全部必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上，又增加了新的技術(shù)特征； d）、從屬專利－－－被控侵權(quán)物是對(duì)先專利技術(shù)的改進(jìn)，并獲得了專利權(quán)，屬于從屬專利，未經(jīng)先專利權(quán)人許可，擅自實(shí)施從屬專利。以上是發(fā)明專利侵權(quán)的判定標(biāo)準(zhǔn)